光学材料与器件

苏大维格大型直写光刻设备交付，拟转让华日升100%股权

苏大维格宣布自主研发的大型直写光刻设备顺利交付，用于光子芯片、光通信和光芯片等领域材料的光刻制造。设备支持大面积衬底实时三维导航自聚焦、曝光临近效应补偿等功能，另有数个大型光刻设备合同待陆续交付。公司还拟以5.5亿元转让华日升100%股权，将资源集中于微纳光学相关设备与材料。