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上海光机所研制谱线解耦红外防伪薄膜
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AI 综述
上海光机所团队设计了Cr/ZnS双层超构薄膜标签，实现可见光与长波红外双通道独立编码，成果发表于Materials Today Physics。标签总功能厚度低于300 nm，仅需掩膜辅助热蒸发制备，无需光刻或激光加工，在70°入射角内保持稳定且对TM/TE偏振不敏感。样品经1000次弯曲循环后，可见光外观和双波段光学响应基本保持。
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最新进展10月23日 16:12
成果发表于Materials Today Physics，样品经1000次弯曲循环后双波段响应基本保持。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月23日
- 上海光机所·科研动态精选上海光机所在谱线解耦红外防伪超构薄膜标签方面取得进展
上海光机所团队设计了Cr/ZnS双层超构薄膜标签，实现可见光与长波红外双通道独立编码，成果发表于Materials Today Physics。标签总功能厚度低于300 nm，仅需掩膜辅助热蒸发制备，无需光刻或激光加工，在70°入射角内保持稳定且对TM/TE偏振不敏感。样品经1000次弯曲循环后，可见光外观和双波段光学响应基本保持。
本事件热度走势
还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。